Deutschland – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – Chemisch-mechanische Poliermaschine
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft eine chemisch-mechanische Poliermaschine für Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen. — Auftraggeber: Friedrich-Schiller-Universität Jena · Frist: 2026-10-13
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena schreibt die Lieferung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) aus. Die Maschine muss für Wafer mit bis zu 100 Millimeter Durchmesser geeignet sein und Rauigkeiten unter 1 Nanometer erreichen. Die Angebotsfrist endet am 13. Oktober 2026. Angebote über 225.000 Euro netto können ausgeschlossen werden.
Eckdaten
- Vergabestelle
- Friedrich-Schiller-Universität Jena
- Leistungsort
- DEU
- Angebotsfrist
- 2026-10-13
- Veröffentlicht
- 2026-09-08
- CPV-Codes
- 38000000
Ausschreibungen nach Region & Branche: Mecklenburg-Vorpommern · Rostock · Schwerin · Bau in MV · Handwerk in MV