Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage
Die Technische Universität München beschafft eine Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage für mikroelektronische Forschungsarbeiten. — Auftraggeber: Technische Universität München · Frist: 2026-07-13
- Vergabestelle
- Technische Universität München
- Angebotsfrist
- 2026-07-13