Deutschland – Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke – System for High Apect Ratio Etch consisting of mainframe and process chambers (IPMS-CNT05.1) - PR1153448-2480-P
Die Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 beschafft ein vollautomatisches Plasmaätzsystem für 300-mm-Halbleiterwafer in Dresden. — Auftraggeber: Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 · Frist: 2026-07-15
- Vergabestelle
- Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
- Angebotsfrist
- 2026-07-15