ALD-Anlage

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. beschafft eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für Dünnschichtprozesse. — Auftraggeber: Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. · Frist: 2026-08-11

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) aus, die für die reproduzierbare Abscheidung von Dünnschichten auf Substraten bis 150 mm Wafer geeignet sein muss. Die Anlage soll Multilagen-Prozesse ohne Vakuumunterbrechung ermöglichen und wird inklusive Steuer-PC mit Windows 11 und Software-Lizenzen geliefert. Angebote sind bis zum 11. August 2026 einzureichen. Der Ausführungsort ist Jena.

Eckdaten

Vergabestelle
Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.
Leistungsort
07745 Jena
Angebotsfrist
2026-08-11
Rechtsgrundlage / Verfahren
VgV · Offenes Verfahren
CPV-Codes
38000000-5
Vergabeplattform
dtvp

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