teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Fraunhofer ENAS beschafft ein teil-automatisches Reinigungssystem für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie. — Auftraggeber: Fraunhofer ENAS · Frist: 2026-09-16
Der Auftraggeber Fraunhofer ENAS schreibt die Beschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken aus. Das System muss 6", 7" und 9" Masken durch einen austauschbaren Chuck reinigen können und ist für die Installation in einem Reinraum vorgesehen. Die Angebotsfrist endet am 16. September 2026. Der Ausführungsort ist Chemnitz.
Eckdaten
- Vergabestelle
- Fraunhofer ENAS
- Leistungsort
- 09126 Chemnitz
- Angebotsfrist
- 2026-09-16
- Veröffentlicht
- 2026-08-29
- Rechtsgrundlage / Verfahren
- de-vol · de-open
- Vergabeplattform
- service.bund.de
Ausschreibungen nach Region & Branche: Mecklenburg-Vorpommern · Rostock · Schwerin · Bau in MV · Handwerk in MV