Chemisch-mechanische Poliermaschine
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beschafft eine chemisch-mechanische Poliermaschine für Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen. — Auftraggeber: Friedrich-Schiller-Universität Jena · Frist: 2026-10-13
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena schreibt die Lieferung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) aus. Die Maschine muss für Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen mit Durchmessern bis 100 Millimeter geeignet sein und Rauigkeiten unter 1 Nanometer erreichen. Angebote sind bis zum 13. Oktober 2026 einzureichen. Der Auftragswert darf 225.000 Euro netto nicht überschreiten.
Eckdaten
- Vergabestelle
- Friedrich-Schiller-Universität Jena
- Leistungsort
- DEU
- Angebotsfrist
- 2026-10-13
- Rechtsgrundlage / Verfahren
- vgv · open
- CPV-Codes
- 38000000
- Vergabeplattform
- evergabe-online.de
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